近年來(lái)，隨著(zhù)現代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和新一輪工業(yè)革命的深入，發(fā)達國家實(shí)施了再工業(yè)化戰略。潔凈手術(shù)室按不同專(zhuān)科，手術(shù)間又可分為普外、骨科、婦產(chǎn)科、腦外科、心胸外科、泌尿外科。燒傷科、五官科等手術(shù)間。由于各專(zhuān)科的手術(shù)往往需要配置專(zhuān)門(mén)的設備及器械，因此，專(zhuān)科手術(shù)的手術(shù)間宜相對固定。無(wú)菌手術(shù)室室高效安全的手術(shù)室空氣凈化系統，保證手術(shù)室的無(wú)菌環(huán)境，可以滿(mǎn)足器官移植、心臟、血管、人工關(guān)節置換等手術(shù)所需的高度無(wú)菌環(huán)境。采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術(shù)室無(wú)菌環(huán)境的有力措施。層流手術(shù)室手術(shù)室是采用空氣潔凈技術(shù)對微生物污染采取程度不同的控制，達到控制空間環(huán)境中空氣潔凈度適于各類(lèi)手術(shù)之要求；并提供適宜的溫、濕度，創(chuàng )造一個(gè)潔凈舒適的手術(shù)空間環(huán)境。由于手術(shù)室要嚴格控制低細菌數及低麻醉氣體濃度，所以層流超凈裝置的穩定性是層流凈化手術(shù)室的重要驗收指標。數字智能技術(shù)深刻改變了制造業(yè)的生產(chǎn)方式和產(chǎn)業(yè)形態(tài)，新材料、新能源等技術(shù)的重大突破將引發(fā)新一輪的技術(shù)和產(chǎn)業(yè)變革。
尤其是在高新技術(shù)產(chǎn)品的加工生產(chǎn)過(guò)程中，如何來(lái)滿(mǎn)足加工的精密化、產(chǎn)品的微型化，高純度（高質(zhì)量）、高可靠性的需求等問(wèn)題，對生產(chǎn)環(huán)境中的潔凈等級提出了更高的要求。另外一方面，隨著(zhù)現代生物醫學(xué)的發(fā)展，對潔凈室中細菌數目、微生物污染的控制問(wèn)題要求也不斷提高，以保證醫療醫藥、生物研究、食品生產(chǎn)等行業(yè)不受微生物污染或感染。
工業(yè)清潔技術(shù)和生物清潔技術(shù)將隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和工業(yè)產(chǎn)品的快速快速發(fā)展而迅速發(fā)展，成為現代工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)實(shí)驗活動(dòng)不可或缺的重要技術(shù)標志之一。
目前，潔凈技術(shù)已廣泛應用于各行各業(yè)或其他要求防止粒子污染、微生物污染的環(huán)境控制、由于各行業(yè)間差距較大，且要求不同，因此控制環(huán)境的內容、指標均不相同。下面就來(lái)對常見(jiàn)的行業(yè)潔凈技術(shù)的要求進(jìn)行總結。
1。藥品生產(chǎn)潔凈室要求
藥品是用于預防、治療疾病和恢復、調整機體功能的特殊商品，它的質(zhì)量直接關(guān)系到人的健康和安危。如果一些藥品在制造過(guò)程中受到微生物、塵粒等污染或交叉污染，可能會(huì )產(chǎn)生預料不到的疾病和危害。
2、醫療應用及醫學(xué)研究中的潔凈室要求
在以集成電路為代表的工業(yè)環(huán)境控制中，經(jīng)常使用工業(yè)清潔技術(shù)和工業(yè)潔凈室;在醫學(xué)上，生物潔凈室通常用于微生物污染控制。在生物潔凈室中，這些微生物大多由細菌和真菌組成，粒徑在0.2um以上，常見(jiàn)的細菌粒徑在0.5um以上，大部分附著(zhù)在其他物質(zhì)粒子上。生物污染通道不僅與空氣有關(guān)，而且與人體和操作者的衣服有關(guān)。
在醫學(xué)研究領(lǐng)域，生物實(shí)驗室、無(wú)菌實(shí)驗室和用于生化和醫學(xué)實(shí)驗的特殊動(dòng)物飼養室也需要控制微生物污染。
3、精密機械及精細化工產(chǎn)品生產(chǎn)潔凈室的要求
隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，許多工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)和加工對生產(chǎn)環(huán)境中的粉塵濃度提出了極高的要求，這要求生產(chǎn)環(huán)境中具有一定的空氣潔凈度以及控制生產(chǎn)所需的各種相關(guān)物質(zhì)。處理。供應質(zhì)量。例如，在膠片生產(chǎn)中，如果膠片被灰塵污染，乳液會(huì )被氧化，活性會(huì )減弱，pH值會(huì )發(fā)生變化等，從而影響膠片的照相性能。
4。半導體和集成電路生產(chǎn)潔凈室要求
半導體材料的凈化是半導體器件發(fā)展的重要基礎。
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